05月23日(Tue) 13:50〜15:30 I会場(ウインクあいち-9F 908会議室)
| 演題番号 | 1I1-4in1 |
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| 題目 | ニューラルネットワークを用いたガスプラントの品質予測 |
| 著者 | 泉谷 知範(NTTコミュニケーションズ株式会社 技術開発部) 切通 恵介(NTTコミュニケーションズ株式会社 技術開発部) 島田 健一郎(NTTコミュニケーションズ株式会社 技術開発部) 伊藤 浩二(NTTコミュニケーションズ 技術開発部) |
| 時間 | 05月23日(Tue) 14:50〜15:10【一般口頭発表】05月25日(Thu) 09:30〜11:10【インタラクティブ発表】 |
| 概要 | IoT, AI技術の発展に伴い，化学プラントにおいても，温度，圧力などのプロセスデータを用いた異常の検知，品質の予測などへの期待が高まっている．本研究では，実際のガスプラントを対象とし，51種のプロセスデータから，製品品質の指示値となるXガス濃度を予測する技術を開発した．ニューラル・ネットワークを利用することで20分後のXガス濃度を高精度に予測できることを確認した． |
| 論文 | PDFファイル |